ASML sta consegnando un secondo sistema litografico High-NA EUV a un cliente sconosciuto

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18/04/2024 19:16 - secondo scanner litografico a un cliente non meglio noto, Intel Foundry ha completato l'assemblaggio del primo scanner litografico High Numerical Aperture (High NA ·

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23/04/2024 14:16 - Stabilite le basi è arrivato il momento della seconda fase che ha visto salire a bordo Boeing ·

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21/02/2024 21:19 - certa è che si tratterà del primo processo High NA EUV.

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28/02/2024 12:15 - estrema (EUV), soprattutto con i nuovi scanner EUV High NA per realizzare chip ancora più “densi”.

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18/04/2024 19:16 - Mentre ASML ha iniziato a spedire le parti di un secondo scanner litografico a un cliente non meglio noto, Intel Foundry ha completato l'assemblaggio del primo scanner litografico High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) commerciale presso il sito di ricerca e sviluppo di Hillsboro, in Oregon.

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26/04/2024 08:18 - A differenza di Intel, però, TSMC non si avvarrà macchinari litografici High NA EUV di ASML per produrre chip con il processo A16.

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05/03/2024 19:16 - Nelle scorse ore Intel ha pubblicato un video in cui mostra l'arrivo nelle sue fonderie della prima unità funzionante di ASML Twinscan EXE:

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24/02/2024 12:15 - ASML, il celebre produttore olandese di macchine di litografia, ha recentemente superato Applied Materials diventando il principale fabbricante di attrezzature per la fabbricazione al mondo.

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29/02/2024 07:17 - della futura produzione di semiconduttori con macchinari High NA.

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26/04/2024 08:18 - Sarà pronto alla produzione nella seconda parte del 2026, con i primi chip attesi ·

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24/02/2024 12:15 - sta avviando la produzione della sua nuova macchina High NA EUV (ultravioletto estremo) promette un futuro ancora ·

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21/01/2022 16:17 - sistema EUV High NA sono inezie se confrontati con il poderoso investimento da 20 miliardi di dollari per realizzare quello che secondo il ·

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29/02/2024 07:17 - ASML ha raggiunto (via Reuters) un traguardo fondamentale in vista della futura produzione di semiconduttori con macchinari High NA.

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23/04/2024 07:17 - Il governo olandese sembra aver convinto ASML a non andare all'estero.

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21/02/2024 21:19 - Non c'è una data di debutto dei primi chip realizzati con tale processo, probabilmente bisognerà attendere il 2026, ma una cosa certa è che si tratterà del primo processo High NA EUV.

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28/02/2024 12:15 - Michele Nasi Pubblicato il 28 feb 2024 Intel Quando abbiamo parlato dei chip TSMC a 2 nm ci siamo ampiamente soffermati sul significato di nodo di produzione e sui cambiamenti che introducono le tecniche di miniaturizzazione dei transistor basate sull'utilizzo della litografia ultravioletta estrema (EUV), soprattutto con i nuovi scanner EUV High NA per realizzare chip ancora più “densi”.

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23/04/2024 07:17 - è a Veldhoven, attaccata a Eindhoven.

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05/03/2024 19:16 - l'imponente macchinario litografico basato sulla tecnologia High NA EUV.

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22/02/2024 09:15 - ad usare scanner per la litografia EUV High NA, aprendo a nuovi orizzonti in termini di ·

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30/07/2021 00:18 - di seconda generazione e all'introduzione di macchinari all'avanguardia per la fotolitografia ASML High NA, ·

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23/04/2024 14:16 - Si è infatti assicurata in anticipo sulla concorrenza la prima unità funzionante ASML Twinscan EXE:

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28/02/2024 09:19 - Tom's Hardware USA - Clicca per ingrandire Dalle slide mostrate, vediamo che Intel inizierà a produrre chip con processo Intel 14A nel 2026 (il primo High NA), mentre quello 10A - 10 Angstrom equivalgono a 1 nanometro - debutterà nel corso del 2027.

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22/02/2024 09:15 - Con Intel Foundry, la società intende adesso posizionarsi come il secondo più grande produttore di semiconduttori entro il 2030.