Il nuovo processo si avvale di avanzate tecniche di fabbricazione dei transistor che includono la litografia completamente ottica per produrre gli spin qubit in silicio, la stessa usata da Intel per produrre i chip CMOS di ultima generazione.
I ricercatori di Intel e QuTech, il centro di ricerca sul calcolo quantistico formato da Delft University of Technology (TU Delft) e Netherlands Organization for Applied Scientific Research (TNO), hanno annunciato di aver creato "i primi qubit in silicio su larga scala" presso l'impianto produttivo Intel D1 di Hillsboro in Oregon.