TSMC: buoni progressi sul processo produttivo a 3 nanometri

2019-07-24 18:04:01 - www.tomshw.it
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TSMC infatti si è detta entusiasta dei suoi progressi nello sviluppo della litografia EUV che ritiene importante per il proprio futuro, ed ha inoltre specificato che il nuovo processo produttivo a 3 nm non rappresenta un semplice upgrade o iterazione di N5, ma si tratta di un progetto completamente nuovo.
Il principale competitor di TSMC intanto, Samsung Foundry, ha già confermato che il lavoro sul proprio processo a 3 nanometri (3GAAE) è in fase avanzata e saranno usati transistor MBCFET Gate-All-Around basati su nanofogli.
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