Samsung, la 'rivoluzione' a 3 nanometri può attendere: non prima del 2022
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12/07/2021 08:18 - · che nei suoi piani segneranno il passaggio dai transistor FinFET ai GAAFET (Gate All Around FET), o nella sua accezione MBCFET (Multi-Bridge Channel Field-Effect · COVID-19 e dai lockdown.
 Roadmap Intel: processi produttivi, transistor e packaging fino al 2025
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30/07/2021 00:18 - Con Intel 20A si passa dai transistor FinFET ai transistor Gate- All - Around (GAA) FET che Intel chiama RibbonFET.…
In un transistor GAAFET (Gate- All - Around FET) il Gate circonda il canale su tutti i lati a differenza dei ·
 TSMC: via libera per la nuova fabbrica dedicata ai 2nm, ecco dove sorgerà
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28/07/2021 14:16 - N2 sarà  il primo processo di produzione della fonderia a utilizzare transistor GAA (Gate- All - Around) (nella loro implementazione di nanosheet o nanowire) insieme ad altre innovazioni.
 CasFET, un nuovo tipo di transistor per CPU più potenti e che consumano meno?
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22/09/2021 07:21 - Al momento i produttori di microchip sembrano orientati su altre soluzioni per il dopo FinFET: si parla ad esempio di Gate All Around FET (GAAFET), con Samsung in prima fila con una propria implementazione chiamata MBCFET, acronimo di Multi Bridge Channel FET.
 TSMC: chip a 3 nanometri consegnati ai clienti nel 2023, 2 nanometri nel 2025
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19/10/2021 09:18 - · questo processo produttivo e, interrogata in merito, non ha mai escluso o confermato l'adozione di transistor con design GAAFET (Gate- All - Around field-effect transistor).
 Samsung, chip realizzati a 2 nanometri con un nuovo transistor nel 2025
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07/10/2021 07:20 - · ) 2021, quest'anno accompagnato dal claim "Adding One More Dimension" in virtàƒÂ¹ del futuro passaggio dai transistor FinFET a quelli Gate- All - Around (GAA) con i processi a 3 e 2 nanometri.
 I futuri transistor sfrutteranno tecniche apprese dalla fisica quantistica
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23/09/2021 12:17 - Samsung sta impiegando la tecnologia GAAFET (Gate All Around Field Effect Transistor) per il processo a 3nm, con una produzione di massa prevista per quest’anno.
 I transistor FinFET sono il passato secondo IBM e Samsung che presentano la nuova soluzione VTFET
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16/12/2021 10:35 - Da parte sua Intel ha presentato in anteprima il suo progetto RibbonFet ovvero il primo transistor Gate- All - Around dell'azienda di Santa Clara: la società  di Gelsinger lo considera come il successore di FinFET.
 Intel e la legge di Moore, un binomio che guarda oltre il 2025: ecco come
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14/12/2021 14:30 - Spazio alla nuova architettura transistor RibbonFET, tramite cui debutteranno i primi GAA (Gate- All - Around) e che permetteràƒÂ  di avere un numero maggiore di transistor per unitàƒÂ  di area.
 Intel, la Legge di Moore valida oltre il 2025: le innovazioni che lo permetteranno
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12/12/2021 11:17 - · transistor "post FinFET", Intel ha annunciato nei mesi scorsi RibbonFET, termine dietro cui si cela la sua implementazione dei transistor Gate- All - Around (GAA) che anche altre realtàƒÂ  stanno cercando di implementare nelle loro roadmap produttive il piàƒÂ¹ rapidamente possibile.
 TSMC, avanzano i preparativi per il processo produttivo a 2 nm
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29/12/2021 11:15 - tra finfet, Gate- All - Around- fet, e altre sfumature simili.
 Intel, la CPU in arrivo nei prossimi anni su desktop, notebook e server. Il punto
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18/02/2022 11:21 - Per quanto concerne i transistor, Intel sta lavorando su RibbonFET, l'implementazione di Intel di un transistor Gate- All - Around (GAA) e prima nuova architettura di transistor dell'azienda dall'introduzione dei FinFET nel 2011.
 Intel, le CPU in arrivo nei prossimi anni su desktop, notebook e server. Il punto
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18/02/2022 13:22 - Per quanto concerne i transistor, Intel sta lavorando su RibbonFET, l'implementazione di Intel di un transistor Gate- All - Around (GAA) e prima nuova architettura di transistor dell'azienda dall'introduzione dei FinFET nel 2011.
 TSMC: il 2026 sarà l'anno dei 2 nanometri e dei transistor GAA
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19/04/2022 10:19 - · il nuovo processo produttivo sfrutterà  transistor basati sulla nuova struttura GAA (Gate All- Around) e continuerà  ad utilizzare la litografia ultravioletta EUV (Extreme Ultraviolet) · nella parte inferiore del canale, da qui il nome di Gate All- Around.
 Samsung: 3 nanometri e transistor GAAFET ormai ai nastri di partenza
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30/04/2022 01:34 - · si appresta ad avviare, nel corso delle prossime settimane, la produzione in volumi di chip con processo produttivo 3GAE (3nm Gate All Around Early).
 Samsung Exynos 2300, emergono nuovi dettagli sul SoC next gen
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27/05/2022 12:16 - àƒÂˆ facile ipotizzare che useràƒÂ  il processo di nuova generazione a 3 nm GAA (Gate All- Around) , che dovrebbe diventare operativo verso la fine del 2022, e che ci saràƒÂ  di nuovo una GPU Xclipse basata sulle ·
 Un nuovo materiale per i nanofili potrebbe rivoluzionare le CPU
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19/05/2022 14:17 - I nanofili in Si-28 purificati isotopicamente possono essere impiegati per migliorare tecnologie esistenti, come i Gate- All - Around Effect Transistor (GAA-FET), che già  utilizzano nanofili di silicio impilati per condurre l’elettricità  ma soffrono ancora del problema ·
 Samsung, parte la produzione a 3 nanometri: un nuovo transistor per migliorare le prestazioni e ridurre i consumi
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30/06/2022 09:16 - · avviato la produzione di chip con processo produttivo a 3 nanometri, tecnologia caratterizzata dall'introduzione della nuova architettura di transistor Gate- All - Around (GAA).
 TSMC guarda al futuro, 2nm nel 2025 col 30% di performance in più
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17/06/2022 14:18 - ·, Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., meglio nota come TSMC, ha presentato la sua tecnologia di produzione N2 (2nm) che utilizzerà  transistor Gate- All - Around field-effect (GAAFET).
 Samsung: iniziata la produzione dei chip GAAFET a 3 nm
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30/06/2022 14:20 - Con l'arrivo dei primi chip GAAFET (Gate- All - Around FET) a marchio Samsung, la società  sudcoreano starebbe cominciando a invertire la tendenza sfruttando anche il fatto che TSMC ha ·
 Samsung raggiunge il limite dei 3 nanometri con il MbcFET
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30/06/2022 09:15 - Samsung àƒÂ¨ riuscita a ottenere questo risultato grazie a una nuova architettura transistor Gate- All - Around (GAA) proprietaria, chiamata Multi-Bridge-Channel FET (MbcFET).
 Samsung, primi test di produzione in massa sui 3 nm imminenti
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29/06/2022 16:16 - Il processo implementeràƒÂ  la tecnologia GAA (Gate- All - Around) FET (Field Effect Transistor): sostanzialmente, il materiale isolante per la corrente àƒÂ¨ distribuito su quattro lati del semiconduttore in silicio, mentre ·
 Samsung inizia a produrre chip a 3nm con architettura GAA
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30/06/2022 08:15 - · annunciato di aver avviato la produzione di chipset con processo produttivo a 3 nanometri (nm) applicando l'architettura a transistor Gate- All - Around (GAA).
 Samsung conferma: avviato il processo produttivo a 3 nm
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30/06/2022 09:15 - La societàƒÂ  conferma quanto giàƒÂ  si sapeva, e cioàƒÂ¨ che il nodo implementa la nuova tecnologia GAA (Gate- All - Around) , in cui sostanzialmente il materiale isolante viene applicato tutto intorno ai quattro lati del transistor, a differenza del precedente FinFET ·
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